헬로티 서재창 기자 | 삼성전자가 최신 5나노 공정 기반의 웨어러블 기기용 프로세서 ‘엑시노스 W920’을 출시했다. 엑시노스 W920은 웨어러블 기기용 프로세서로는 처음으로 최신 EUV 공정이 적용됐고, 최신 설계 기술까지 더해 성능과 전력효율이 크게 향상됐다. 또한, FO-PLP와 SIP-ePOP 기술을 적용해 프로세서와 함께 PMIC, 모바일 D램(LPDDR4X), eMMC 메모리를 웨어러블 기기에 최적화된 초소형 패키지에 구현했다. 삼성전자는 엑시노스 W920에 ‘Arm’의 저전력 ‘코어텍스 A55’ CPU 코어와 ‘말리-G68’ GPU 코어를 탑재했다. 엑시노스 W920은 이전 제품에 비해 CPU 성능은 약 20%, 그래픽 성능은 최대 10배 이상 향상됐으며, 스마트워치에 탑재시 3D 워치 페이스와 부드러운 화면 전환도 지원할 수 있다. 삼성전자는 저전력 디스플레이용 코어텍스-M55도 추가로 탑재했다. 전체 화면을 켜지 않고도 시계, 알람, 부재중 전화 등 간단한 내용을 상시 확인하는 AOD(Always On Display) 모드에서 프로세서가 디스플레이를 구동하는 데 필요한 전력소모를 최소화했다. 엑시노스 W920은 야외에서의 빠른 통신을 위한 L
[헬로티=이나리 기자] 대만의 반도체 파운드리 업체 TSMC의 이사회가 새로운 장비와 시설 구매를 지원하기 위해 무담보 채권으로 139억 달러(대만 NT)(미화 4억7200만 달러) 발행 계획을 승인했다. TSMC는 이미 올해 상반기에만 무담보 채권으로 약 600억 달러(NT)(미화 20억3791만 달러)를 판매했고, 이번이 세 번째다. TSMC는 지난 3월 240억 달러(NT)(미화 8억1500만 달러)의 무담보 채권을 발행한데 이어 지난 4월에는 216억 달러(NT)(미화 7억3353만 달러)를 발행한 바 있다. TSMC가 지속적으로 자금을 확보하고 있는 이유는 3나노미터와 5나노미터 미세공정 생산시설을 확장하기 위해서다. 나노공정은 회로 폭을 나노미터(1㎚는 10억분의 1m) 급으로 줄여 반도체를 만드는 것으로 공정이 미세해질수록 칩 크기를 작게 할 수 있고 전력 효율과 성능을 개선할 수 있는 기술이다. 현재 양산에 있어서 가장 앞선 기술은 7나노 기반 칩이다. TSMC는 2022년 3나노 칩 양산을 앞두고 있다. TSMC는 채권 발행을 통해 조달한 자금으로 남대만 사이언스파크에 있는 공장의 새로운 팹18에서 5나노 공정 용량을 확장하는데 사용했다. 지
[헬로티] NXP 반도체와 TSMC는 NXP의 차세대 고성능 자동차 플랫폼에 TSMC의 5나노미터(5nm) 기술 도입을 위해 협력한다고 발표했다. NXP의 자동차 설계 역량과 TSMC가 보유한 업계 최고 수준의 5nm 기술을 결합한 이번 협력을 통해, 자동차를 도로 위의 강력한 컴퓨팅 시스템으로 전환하는 과정이 더욱 탄력을 받을 것으로 기대된다. 다수의 16nm 설계 성공을 바탕으로 TSMC와 NXP는 양사의 협업을 확대해 5nm SoC(System-on-Chip) 플랫폼을 만들어 차세대 자동차 프로세서를 구현하고자 한다. TSMC의 5nm 공정을 도입함으로써, NXP는 커넥티드 콕핏(connected cockpit), 고성능 도메인 컨트롤러, 자율 주행, 첨단 네트워킹, 하이브리드 추진 제어 및 통합 섀시 관리와 같은 다양한 기능과 워크로드를 처리할 수 있게 됐다. TSMC의 5nm 기술은 대량 생산에 들어간 공정 가운데 현재 세계에서 가장 발전된 공정 중 하나이다. NXP는 이전 7nm 세대보다 약 20% 빠른 속도 또는 약 40% 전력 감소를 제공하며, 업계에서 가장 포괄적인 설계 생태계의 지원을 받는 TSMC의 5nm 기술의 향상된 버전 N5P를 채택
[헬로티] 삼성전자가 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 5나노 공정을 위한 파운드리 생산 시설을 구축한다. 삼성전자는 2020년 2월 EUV 전용 화성 ‘V1 라인’ 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가고 있다. ▲삼성전자 평택캠퍼스 항공 사진 이번 투자는 삼성전자가 2019년 4월 발표한 ‘반도체 비전 2030’ 관련 후속 조치의 하나로 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 세부 전략을 실행하고 있다. 반도체 비전 2030에는 133조원을 투자해 2030년까지 시스템 반도체 1위를 달성하겠다는 내용이 담겼다. 삼성전자는 5월 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다. 삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해
[첨단 헬로티=이나리 기자] 반도체 파운드리 기업인 대만의 TSMC가 3나노, 5나노 기반의 반도체 생산시설을 건설 및 확장하기 위해 채권 매각을 통해 대만(NT) 216억 달러(미화 7억1780만 달러)를 조달하는 것을 목표로 하고 있다. TSMC는 지난 4월 6일 0.52%의 비율로 5년 만기 59억 달러(NT), 0.58%로 104억 달러(NT), 0.6%로 10년 만기 53억 달러(NT) 규모로 총 216억 달러(NT)의 회사 채권을 발행하기로 결정했다고 밝혔다. TSMC 측에 따르면 마스터링크증권은 채권 매각의 주요 보험사 역할을 할 것이다. TSMC는 채권이 언제 발행될 것인지 밝히지 않았지만, 업계에서는 이달 말일 것으로 추정되고 있다. 이번 채권 매각은 TSMC가 지난 3월에 240억 달러(NT)의 무담보 채권을 발행한 이후 올해까지 두 번째다. TSMC는 이번 자금을 남대만 사이언스파크에 있는 공장에서 첨단 3나노미터(nm)와 5나노미터 공정을 개발하는데 사용할 것으로 예상된다. TSMC는 올해 상반기 5나노, 2022년 3나노 칩 양산을 앞두고 있다. 현재 양산에 있어서 가장 앞선 기술은 7나노 기반 칩이다. 나노공정은 회로 폭을 나노미터(